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真空滅弧室是真空開關的核心部件，真空開關的合、分操作，是通過位于真空滅弧室外的操動機構使真空滅弧室內的一對對置觸頭閉合或分離來完成的。真空滅弧室的基本結構如上圖，其外殼由陶瓷或玻璃等無機絕緣材料制成，呈圓筒狀，兩端用金屬蓋板封接組成一個密閉容器;內部有一對觸頭，靜觸頭固定在靜導電桿上，動觸頭固定在動導電桿上。由于動導電桿和金屬蓋板之間密封有波紋管，所以動導電桿可以沿軸向運動從而帶動觸頭完成合、分動作。為均勻內部電場分布，在觸頭和波紋管周圍都設有屏蔽罩。真空滅弧室內部為高真空(≤1x10-3Pa)。當動觸頭在操動機構作用下合閘時，動、靜觸頭閉合，電源與負載接通，電流流過負載。反之當動觸頭在操動機構作用下帶電分閘時，觸頭間產生真空電弧，真空電弧依靠觸頭上蒸發出來的金屬蒸汽維持。當工頻電流過零時，金屬蒸汽將停止蒸發，同時由于真空電弧的等離子體快速向四周擴散，電弧就被熄滅，觸頭間隙很快地變為絕緣體，于是電流就被分斷。
真空電弧不是靠電極間氣體分子的電離來維持的，它是依靠電極材料蒸發所形成的金屬蒸汽的電離維持的。當真空滅弧室的觸頭在真空中帶電分離時，電接觸表面積迅速減小，最后只留下一個或幾個微小的接觸點(金屬橋)，在金屬橋上電流密度非常大。隨著金屬橋縮小，其電流密度增大，溫度也越來越高。最后金屬橋熔化并蒸發出大量的金屬蒸汽。金屬蒸汽溫度很高，同時又存在很強的電場，這樣就會導致強烈的場致發射和金屬蒸汽的電離，從而發展成真空電弧。由于觸頭的特殊構造，可使電弧均勻分布在觸頭表面，從而減小電弧能量和觸頭的電腐蝕速度，并使真空滅弧室具有較高的弧后介質強度恢復速度。燃弧過程中產生的金屬蒸汽被屏蔽罩表面冷凝，釋放的少量氣體中的一部分被凝聚的金屬蒸汽所吸收，一部分被管內吸氣劑吸收，使真空滅弧室內一直維持高的真空度。
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